传统超纯水设备工艺与EDI超纯水设备工艺介绍

传统的超纯水设备是电渗析、离子交换器(阳床、阴床、复床、混床)。新型半导体超纯水设备是EDI(连续电除盐技术)设备。EDI是将电渗析技术和离子交换技术有机结合形成的一种新型除盐技术。可以有效的去除水中几乎全部的阴阳离子，出水电阻率可稳定在15MΩ.CM以上，连续运行、无化学污染、水的利用率高，在超纯水制备工艺上有着强大的优势广阔的应用前景。通过离子交换树脂及选择性离子膜达到高脱盐效果，与反渗透结合的联合工艺，用来制取电阻率10~17MΩ·CM 的高规格纯水。所以EDI+反渗透设备适合于工业高纯水，医用超纯水，电子反渗透纯水系统，电子工业用超纯水系统，电镀工业用超纯水系统，实验室用超纯水,食品饮料用超纯水，生物工程超纯水，制造业用超纯水。

我们专注于半导体超纯水设备的生产，于此同时该设备还适用于太阳能硅片纯水处理，PCB超纯水，半导体LED超纯水处理设备，电视机纯水处理、录音机水处理应用达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

半导体超纯水设备制备超纯水工艺(具体情况再具体分析)
1、采用离子交换方式（离子交换工艺参数），其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点。
2、采用两级反渗透方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点。
3、采用EDI方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点。